王海辉&Jurgen Caro&范红玮JACS:富勒烯调控MOF膜实现氦分离
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研究内容
稀有气体氦(He)广泛应用于磁共振成像、气球飞行、泄漏检测、焊接等领域。He是制造半导体和电子器件最重要的特种气体之一。氦的生产主要依靠通过低温蒸馏和变压吸附从天然气中提取,这在技术上具有挑战性,而且总是能源密集型的。金属有机骨架(MOF)膜在气体分离方面引起了人们的极大研究兴趣,但由于He的弱极化性和MOF固有的孔径灵活性,高效的氦(He)分离仍然是一个挑战。
清华大学王海辉、德国汉诺威莱布尼茨大学Jurgen Caro和北京化工大学范红玮在MOF膜中引入富勒烯(C60和C70)来调节ZIF-8膜的结晶相组成,从而产生用于选择性He渗透的小而固定的孔径。结果显示,制备的膜是He/N2、CH4的显著增强的分子筛,以及>200GPU的He渗透率。C70@ZIF-8膜的He/N2选择性高达30.4,远高于不含富勒烯的ZIF-8膜(5.1),并比其他报道的He选择性MOF膜高出近一个数量级。相关工作以“Tuning the Phase Composition of Metal-Organic Framework Membranes for Helium Separation through Incorporation of Fullerenes”为题发表在国际著名期刊Journal of the American Chemical Society上。
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研究要点
要点1.作者展示了在电化学MOF层生长过程中,通过原位封装富勒烯,制备富勒烯负载的MOF薄支撑层作为筛分膜。富勒烯(C60和C70)具有大π表面和刚性结构,它的引入将诱导从ZIF-8_Cm到ZIF-8_I-43m相的晶体相变,从而产生具有小孔径的刚性晶格ZIF-8膜,实现增强的He选择性分离。
要点2.富勒烯改性的ZIF-8(C60@ZIF-8和C70@ZIF-8)膜含有约20%的刚性晶格ZIF-8_I-43m相,膜厚约为200-350 nm。与ZIF-8膜相比,富勒烯改性的ZIF-8膜对He/N2和He/CH4分离的选择性显著提高,并且在干燥和潮湿条件下具有优异的长期稳定性。
要点3.具体而言,C70@ZIF-8膜高达30.4,远高于不含富勒烯的ZIF-8膜(5.1),并比其他报道的He选择性MOF膜高出近一个数量级。在干燥和潮湿条件下连续780小时的长期气体渗透试验证明了富勒烯改性的ZIF-8膜的优异稳定性。
这种策略应该为设计用于高级分子分离的MOF膜的有效孔径开辟一种新的方法。
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研究图文
图1.(a)无富勒烯和富勒烯改性的ZIF-8膜的合成和(b)由于富勒烯掺入而导致的ZIF-8-相变,从而产生具有适合于He分离的小孔孔的刚性晶格ZIF-8_I-43m相。
图2. 富勒烯@ZIF-8纳米颗粒的(a-c)FTIR光谱,(d)TGA曲线以及(e)N2的吸附(实线)和解吸(虚线)等温线。(f)纯ZIF-8膜的表面荧光显微镜图像(俯视图)和C70@ZIF-8膜的平均荧光强度(MFI)值以及(g)C70在甲苯混合物和甲苯中和C70@ZIF-8在甲苯浸出试验后的紫外-可见光谱。
图3. ZIF-8、3.63% C60@ZIF-8、2.42% C70@ZIF-8和3.50% C70@ZIF-8膜的(a-d)表面图像和水接触角以及(f-i)横截面图像。(e)3.50% C70@ZIF-8膜的C(红色)和Al(蓝色)的表面EDS。(j)3.50% C70@ZIF-8膜C和Al的横截面EDS。(k)3.50% C70@ZIF-8膜的的XRD结果的Rietveld细化。(l)ZIF-8膜的结晶相百分比。(m)富勒烯和不同ZIF-8相晶格之间的相互作用能。
图4.(a)AAO、ZIF-8、3.63% C60@ZIF-8和3.50% C70@ZIF-8膜的He/N2分离性能。(b)C70含量对He/N2分离性能的影响。(c)3.50% C70@ZIF-8膜的纯气渗透率。绿色区域是不同分子之间的边界。(d)温度对3.50% C70@ZIF-8膜的He/N2分离性能的影响。(e)3.50% C70@ZIF-8膜的长期稳定性。
图5. 富勒烯@ZIF-8膜的He/N2、CH4的选择性与He渗透率的函数关系与文献数据的比较。
图6.(a)通过厚度为350 nm的ZIF-8_I-43m或ZIF-8_Cm膜的He原子或N2分子平均通过时间。(b)He和N2通过膜的速率。(c)ZIF-8_I-43m相的4-M和6-M孔径。(d)25°C时不同碳原子之间的距离。
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文献详情
Tuning the Phase Composition of Metal-Organic Framework Membranes for Helium Separation through Incorporation of Fullerenes
Jiuli Han, Haoyu Wu, Hongwei Fan,* Li Ding, Guangtong Hai, Jürgen Caro,* Haihui Wang*
J. Am. Chem. Soc.
DOI: https://doi.org/10.1021/jacs.3c03362